应用材料公司 (AMAT) 的最新半导体制造工具获得了积极评价，该工具针对使用极紫外或 EUV 光刻设备制造的高端芯片，来自业内同行 ASML (ASML). 消息传出后，AMAT 股票反弹至买入区域。
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总部位于加利福尼亚州圣克拉拉的应用材料公司周二推出了两款新产品。 首先，Centura Sculpta 系统有望成为 EUV 双图案化的更简单、更快速且更具成本效益的替代方案。 其次，VeritySEM 10 系统可精确测量使用 EUV 和新兴的高 NA EUV 光刻图案化的半导体器件特征的尺寸。
“我们认为应用材料公司的公告总体上是积极的，因为我们相信 Centura Sculpta 和 VeritySEM 10，尽管程度较低，但扩大了公司在前沿图案化方面的机会，”德意志银行分析师 Sidney Ho 在一份报告中表示客户。 他将 AMAT 股票评级为买入。
从竞争的角度来看，他认为短期内不会对其他半导体设备厂商产生重大影响，包括 ASML、 KLA (KLAC) 以及 林研究 (LRCX). 他说，原因是可能需要几年时间才能将 Centura Sculpta 平台添加到主要芯片制造商的大批量制造流程中。
Ho 说，应用材料公司预计在未来两到四年内，新产品将带来数亿美元的收入贡献。
AMAT 股票因产品新闻而上涨
在交易中 今天股市，AMAT股价上涨1%，收于117.26。 周二，AMAT 股价上涨 3.6%，收于 116.15 点，当天收于 5% 购买区 其最近的 突围.
1 月 XNUMX 日，AMAT 股票突破了 杯座 在 购买点 根据116.19年的数据 IBD 市场史密斯 图表。 但它退回到它的 50日均线，一个关键的支持水平，在应用材料公司报告其 第一财季业绩. 然而，在一个积极的迹象中，它没有下降到足以触发止损 卖出规则， 基于 IBD 交易指南.
公告发布后，瑞银分析师 Timothy Arcuri 重申了他对 AMAT 股票的中性评级。 他在给客户的说明中说，应用材料公司的新产品是一个很好的补充，但不会改变公司的游戏规则。
ASML 可能面临的长期不利因素
Centura Sculpta 平台 可以为生产尖端芯片的芯片制造商节省大量成本并加快生产速度。 它消除了 EUV 芯片制造过程中称为双重图案化的第二步。
双图案化是指一种光刻方法，其中芯片图案在同一位置印刷两次，以获得更好的分辨率和精度，因为特征尺寸变得更小。
TD Cowen 分析师 Krish Sankar 表示，Applied Materials 系统使用一种称为图案成形的技术补充了 EUV 光刻技术。 它使用等离子带状束从晶圆上去除掩模材料。 Sankar 将 AMAT 股票评为跑赢大盘。
Sankar 在一份报告中表示，从长远来看，该系统可能会给 ASML 带来不利影响。 他说，这是因为制造工艺的改进可能会减少所需的 EUV 光刻系统。
技术领导者名单上的芯片齿轮制造商
周三，ASML 股价下跌 0.5%，收于 614.95 美元。 周二，它下跌了 2.3%。
根据 IBD 的半导体设备行业组别，ASML 股票在 29 只股票中排名第五 IBD 库存检查. AMAT 股票在该集团中排名第八。
ASML 和应用材料都在 IBD 技术领导者 列表。 KLA 和 Lam Research 也在技术领导者名单上。
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资料来源：https://www.investors.com/news/technology/amat-stock-applied-materials-encroaches-on-asml-business/?src=A00220&yptr=yahoo